Jetzt bewerben: Kunstministerium vergibt Stipendien für USA-Aufenthalt

Bildende Künstlerinnen und Künstler aus Sachsen können sich bis zum 9. Februar 2009 für einen dreimonatigen Studienaufenthalt in Columbus/Ohio im Jahr 2010 bewerben. Das Sächsische Staatsministerium für Wissenschaft und Kunst vergibt dafür wieder zwei Stipendien.

30.12.2008 Sachsen Pressemeldung Sächsisches Staatsministerium für Wissenschaft, Kultur und Tourismus

Die Stipendien werden im Rahmen eines internationalen Künstleraustauschprogramms vergeben, das vom Greater Columbus Arts Council und dem Sächsischen Kunstministerium bereits 1995 ins Leben gerufen wurde. Bewerben können sich Künstlerinnen und Künstler, die ihren Schaffensmittelpunkt oder ersten Wohnsitz im Freistaat Sachsen haben, überwiegend freiberuflich arbeiten und weder an einer Hochschule immatrikuliert sind, noch sich in einer Ausbildung befinden.

Die Bewerbungsunterlagen und weitere Informationen zur Ausschreibung sind auf den Internetseiten des Kunstministeriums unter www.smwk.sachsen.de/kunst_und_kultur/2289.htm zu finden. Bewerbungen für die Stipendien 2010 sind bis zum 9. Februar 2009 beim Sächsischen Staatsministerium für Wissenschaft und Kunst, Referat Allgemeine Kunstförderung und Soziokultur, Wigardstraße 17 in 01097 Dresden einzureichen.

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